uv光催化氧化設備采用高強度納米紫外線破壞、分解大分子鏈為小分子鏈，再利用臭氧和羥基自由基氧化、催化劑進行催化氧化，使有機物變?yōu)樗投趸迹赃_到去除有機物的目的。

uv光催化氧化設備原理
由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg（eV）的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區(qū)域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發(fā)生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子（e-）和空穴（h+）。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有很強的氧化性,能將絕大多數(shù)的有機物氧化至產物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能分解。

uv光催化氧化設備性能優(yōu)勢

1、除惡臭：能去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效果大大_1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》（GB16297-1996）。
2、無需添加_物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭/工業(yè)廢氣通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加_物質參與化學反應。
3、適應性強：GY-系列惡臭氣體（工業(yè)廢氣）UV光解廢氣凈化設備可適應高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質的脫臭、凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
4、運行成本低：GY-系列惡臭氣體（工業(yè)廢氣）UV光解廢氣凈化設備無_機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻級低＜50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。
5、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等條件，設備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量。
6、進口材料制造：防火性能高，設備性能穩(wěn)定，采用不銹鋼材質，設備使用壽命在十五年以上。
7、防爆認證產品：設備具有、防爆特性，已通過防爆電器產品質量監(jiān)督檢驗中心的Ex防爆合格認證（證書編號：CNEx13.0792 X），能廣泛應用于采油（氣）田、石油化工、制藥等防爆要求高的行業(yè)。

應用領域
涂料廢氣處理，噴漆廢氣處理，飼料行業(yè)廢氣處理，油墨生產廢氣處理，注塑廢氣處理，吹膜廢氣處理，塑料造粒廢氣處理，家具廠廢氣處理，化工廢氣處理，制藥廠廢氣處理，食品加工廢氣處理，香精香料廢氣處理，印刷廢氣處理。

應用案例
項目：陜西印刷有限公司廢氣治理工程
主要成分：油墨及烤箱內散發(fā)的廢氣；
處理風量：4500m3/h；
設備配置：GY-TQ20000型uv光催化氧化設備一臺；